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铜是一种呈紫红色光泽的金属，稍硬，极坚韧，耐磨损，有很好的延展性、较好导热性、导电性和耐腐蚀能力。铜及其合金在干燥的空气里很稳定，但在潮湿的空气里其表面会生成一层绿色的碱式碳酸铜Cu₂(OH)₂CO₃，俗称铜绿。自然界中的铜被分为自然铜、氧化铜矿和硫化铜矿。常见化合物有：氢氧化铜、氧化铜和硫酸铜。...
混炼是一个复杂的改善粉末流动性和完成分散的过程。常用的混炼装置有双螺杆挤出机、z形叶轮混料机、双行星混炼机等，目前正在发展连续混炼工艺。混炼时的加料速率、混炼温度、转速等都会影响混炼的效果。混炼工艺步骤目前一直停留在依靠经验的水平上，最终评价混炼工艺好坏的一个重要指标是所得喂料的均匀性和一致性程度。的注射充模过程，并将其和喂料性能等相联系，优化注射条件参数，消除注射缺陷是目前先进的实验手段，也是未...
粉末的种类、特点和选用对MIM制品的性能及其应用范围的拓展起着十分重要的作用。MIM要求粉末粒度为微米级以下，形状近球形。此外对粉末的松装密度、摇实密度、粉末长径比、自然坡度角、粒度分布也有一定的要求。MIM使用的原料粉末粒径在2~15|xm,而传统粉末冶金的原粉粉末粒径大多在50~100(jLmoMIM工艺的成品密度高，原因是使用微细粉末。MIM工艺具有传统粉末冶金工艺的优点，而形状上自由度高是...
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。...
铝的生产和提纯：铝是从铝土矿中提取Al2O3，再在熔融冰晶石中电解而得到的，纯度一般在99%以上，但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料，铝靶材对铝材的第一个要求也是最重要的要求就是纯度要高，铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的，价格要比工业纯铝99.7贵很多，国内最高纯度在99.9999%（6N）左右。...
铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。...
化学元素周期表是根据原子量从小至大排序的化学元素列表。列表大体呈长方形，某些元素周期中留有空格，使特性相近的元素归在同一族中，如碱金属元素、碱土金属、卤族元素、稀有气体，非金属，过渡元素等。这使周期表中形成元素分区且分有七主族、七副族、Ⅷ族、0族。...
锡是银白色的软金属，比重为7.3，熔点低，只有232℃，你把它放进煤球炉中，它便会熔成水银般的液体。锡很柔软，用小刀能切开它。锡的化学性质很稳定，在常温下不易被氧气氧化，所以它经常保持银闪闪的光泽。锡无毒，人们常把它镀在铜锅内壁，以防铜与温水生成有毒的铜绿（碱式碳酸铜）。...
锡材种类简介锡材可分为：锡箔，锡粉，锡粒（珠、球），锡异型材(棒、板、片、带)。锡的三种同素异形体：白锡，灰锡，脆锡。...
磁控溅射的工作原理就是电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。...
