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锶是一种金属元素，元素符号为Sr，原子数为38，属于元素周期表上2A族，是一种有银白色光泽的碱土金属。化学性质活泼，加热到熔点(769℃)时即燃烧，呈红色火焰，生成氧化锶(SrO)，在加压条件下跟氧气化合生成氧化锶(SrO2)。跟硫、硒、卤素等容易发生化合反应。...
钡是一种具有银白色光泽的碱土金属，焰色为黄绿色，柔软，有延展性。钡的化学性质十分活泼，能与大多数非金属反应，从来没有在自然界中发现钡单质。钡盐除硫酸钡外都有毒。此外，金属钡的还原性很强，可还原大多数金属的氧化物、卤化物和硫化物，得到相应的金属。...
锆(Zirconium)是一种金属元素，元素符号Zr，位于元素周期表中IV-B族，原子序数是40，密度6.49g/cm³，熔点1852°C，沸点4377°C。锆是一种银白色过渡金属，因其制取工艺复杂，不易被提取，所以也常被称为“稀有金属”。事实上，锆在地壳中的含量约0.025%，居第19位，几乎与铬相等，比常见的金属铜、铅、镍、锌还多，但分布非常分散。锆在空气中表面易形成一层氧化膜，具有光泽，外观...
硅是一种化学元素，英文名称Silicon，化学符号是Si，旧称矽，原子序数14，相对原子质量28.0855，密度2.4g/cm³，熔点1414℃，沸点2355℃，元素周期表上IVA族的类金属元素。硅有晶体硅和无定形硅两种同素异形体，晶体硅为钢灰色，无定形硅为黑色，晶体硅属于原子晶体，硬而有光泽，有半导体性质。硅的化学性质比较活泼，在高温下能与氧气等多种元素化合，不溶于水、硝酸和盐酸，溶于氢氟酸和碱...
硅，元素符号Si，原子序数14，原子量28.086，位于第三周期第IVA族，共价半径117皮米，离子半径42皮米，第一电离能786.1kJ/mol，电负性1.8，密度2.33g/cm3，熔点1410℃，沸点2355℃，硬度7。元素硅有无定形硅和晶体硅两种同素异形体。无定形硅为黑色；晶体硅呈钢灰色，有明显的金属光泽、晶格和金刚石相同，硬而脆，能导电，但导电率不如金属且随温度的升高而增加，属半导体。...
镍是一种银白色金属，在空气中很容易被空气氧化，表面形成有些发乌的氧化膜，因此人们见到的镍常颜色发乌。镍质坚硬，有很好的延展性，磁性和抗腐蚀性，且能高度磨光。镍在地壳中含量也非常丰富。在自然界中以硅酸镍矿或硫、砷、镍化合物形式存在。镍常被用于制造不锈钢、合金结构钢等钢铁领域，电镀，高镍基合金和电池等领域，广泛用于飞机、雷达等各种军工制造业，民用机械制造业和电镀工业等。...
光学镀膜由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小，采用高反射比的反射镜可使...
在物理气相沉积过程中，靶材被分解成蒸气状态（通常在高真空环境中），然后沉积在其他材料（称为基板）上以形成薄膜。溅射靶材采用物理气相沉积技术制成的薄膜具有许多优点，例如优异的硬度、耐用性和良好的抗变色和耐腐蚀能力。因此，如今靶材溅射镀膜越来越多地用于多种用途，对靶材的需求也迅速增加。下面来看一下各种靶材在溅射镀膜中的应用。...
溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源.溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域,不同领域需要的靶材各不相同.按照生产方法溅射靶材可分为粉末靶、熔炼靶和喷涂靶;按照形状可分为平面靶材和管状靶材,平面靶材又可分为矩形靶和圆弧靶;根据成分可分为纯金属靶材、合金靶材、氧化物靶材...
磁控溅射是一种物理气相沉积方法,它可以通过使用施加到二极管溅射靶上的特殊形成的磁场来沉积各种材料,包括金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材等.沉积速率或成膜速率是衡量磁控溅射机效率的重要参数.影响沉积速率的因素有很多,包括工作气体的种类、工作气体的压力、溅射靶的温度、磁场强度等.影响磁控溅射靶材镀膜沉积速率的有3个重要因素:溅射电压、电流和功率....
