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金属钴简介

2021-12-14 15:55:21

钴，英文名称：Cobalt，是一种金属元素，元素符号Co,原子序数27,属于VIII族。钴是一种银灰色有光泽的金属，熔点1495℃，沸点2870℃，有延展性和铁磁性，钴在常温的空气中比较稳定，高于300℃时，钴在空气中开始氧化。...

各种靶材对应的PVD镀膜颜色

2021-12-14 15:36:25

PVD真空镀膜装饰薄膜常用材料及其常用气体制作的各类装饰颜色涂层:...

简析影响磁控溅射工艺稳定性的因素

2021-12-14 10:05:47

磁控溅射镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性、薄膜的成膜质量、溅射速率等方面的问题是实际生产中十分关注的。影响这些工艺稳定性的因素主要有溅射功率、气体压力与氩气纯度、靶与基片的距离、磁场的强度与分布、基片的温度与清洁度等因素。...

靶材晶粒测试常用的基本方式

2021-12-13 16:01:14

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级.晶粒越细小则晶界面积越大,对性能的影响也越大.对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀.据研究发现,若将钛靶的晶粒尺寸控制在100um以下,且晶粒大小的变化保持在20%以内,其溅射所得的薄膜的质量可得到大幅度的改善....

钨铌靶材喷砂处理过程

2021-12-13 14:14:03

钨铌靶材具有高强度、高硬度、耐磨、耐腐蚀和良好耐热性能等特点，因而广泛应用于高压、高转速、高温、腐蚀性介质等工作环境。然而，在溅射过程中，靶材的边缘处会留有溅射产生的颗粒物，而这些颗粒物一旦剥落，不仅会影响溅射环境，还降低产品质量。...

钼溅射靶材的应用

2021-12-10 16:45:14

钼溅射靶材的性能与其源材料（纯钼或钼合金）相同。钼是一种主要用于钢铁的金属元素，工业氧化钼压制后大部分直接用于炼钢或铸铁，少量钼冶炼成钼铁或钼箔后再用于炼钢。它可以提高合金的强度、硬度、可焊性和韧性，以及耐高温和耐腐蚀性。...

靶材的选用原则

2021-12-10 14:00:16

靶材是制备薄膜的主要材料之一，主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等，对材料纯度和稳定性要求高。...

钨溅射靶材的特点

2021-12-10 10:45:42

钨靶材，其又称为钨溅射靶材，是一种以纯钨粉为原材料的产品，外观为银白色，因有优异的物理性质和化学性质，而深受众多领域欢迎。...

靶材背板绑定相关知识介绍

2021-12-09 15:23:16

靶材绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来。主要有三种的方式：压接、钎焊和导电胶。靶材绑定常用钎焊，钎料常用In、Sn、In–Sn，一般使用软钎料的情况下，要求溅射功率小于20W/㎝2。...

金属靶材概述

2021-12-09 10:29:50

靶材是制备薄膜的主要材料之一，主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等，对材料纯度和稳定性要求高。溅射靶材的工作原理：溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。...

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