为确保沉积薄膜的质量，靶材的质量必须严格控制，经大量实践，影响钛靶材质量的主要因素包括纯度、平均晶粒尺寸、结晶取向与结构均匀性、几何形状与尺寸等。

（１）纯度

钛靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大。钛靶材的纯度越高，溅射钛薄膜的中的杂质元素粒子越少，导致薄膜性能越好，包括耐蚀性及电学、光学性能越好。不过在实际应用中，不同用途钛靶材对纯度要求不一样。例如，一般装饰镀膜用钛靶材对纯度的要求并不苛求，而集成电路、显示器体等领域用钛靶材对纯度的要求高很多。靶材作为溅射中的阴极源，材料中的杂质元素和气孔夹杂是沉积薄膜的主要污染源。气孔夹杂会在铸锭无损探伤的过程中基本去除，没有去除的气孔夹杂在溅射的过程中会产生尖端放电现象（Ａｒｃｉｎｇ），进而影响薄膜的质量；而杂质元素含量只能在全元素分析测试结果中体现，杂质总含量越低，钛靶材纯度就越高。

（2）平均晶粒尺寸

通常钛靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级，细小尺寸晶粒靶的溅射速率要比粗晶粒靶快，在溅射面晶粒尺寸相差较小的靶，溅射沉积薄膜的厚度分布也较均匀。研究发现，若将钛靶的晶粒尺寸控制在１００μｍ以下，且晶粒大小的变化保持在２０％以内，其溅射所得薄膜的质量可得到大幅度改善。集成电路用Ｔｉ靶材平均晶粒尺寸一般要求在３０μｍ以内，超细晶Ｔｉ靶材平均晶粒尺寸在１０μｍ以下。

（3）结晶取向

金属钛是密排六方结构，由于在溅射时钛靶材原子容易沿着原子六方最紧密排列方向优先溅射出来，因此，为达到最高溅射速率，可通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。目前大多数集成电路钛靶材溅射面｛１０１３｝晶面族为６０％以上，不同厂家生产的靶材晶粒取向略有不同，钛靶材的结晶方向对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大。平面显示和装饰镀膜的薄膜尺寸偏厚，所以对应钛靶材对晶粒取向要求比较低。

（4）结构均匀性

结构均匀性也是考察靶材质量的重要指标之一。对于钛靶材不仅要求在靶材的溅射平面，而且在溅射面的法向方向成分、晶粒取向和平均晶粒度均匀性。只有这样钛靶材在使用寿命内，在同一时间内能够得到厚度均匀、质量可靠的、晶粒大小一致的钛薄膜。

（5）几何形状与尺寸

主要体现在加工精度和加工质量方面，如加工尺寸、表面平整度、粗糙度等。如安装孔角度偏差过大，无法正确安装；厚度尺寸偏小会影响靶材的使用寿命；密封面和密封槽尺寸过于粗糙会导致靶材安装后真空出现问题，严重的导致漏水；靶材溅射面粗糙化处理可使靶材表面布满丰富的凸起尖端，在尖端效应的作用下，这些凸起尖端的电势将大大提高，从而击穿介质放电，但是过大的凸起对于溅射的量和稳定性是不利的。

(6) 焊接结合

    通常对于高熔点钛与低熔点铝材料的扩散焊接，主要是基于单向或者双向加压的真空扩散